AII微量氧分析仪原子层沉积系统进口微量氧分析仪优选品牌
原子层沉积系统是专门为工业化中试而研制的全自动生产型单腔原子层沉积系统。该系统配备多种材料的标准沉积工艺配方，满足工业应用需求。AII微量氧分析仪原子层沉积系统进口微量氧分析仪优选品牌
产品优势：
先进的软件控制系统：系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体；
技术指标：AII微量氧分析仪原子层沉积系统进口微量氧分析仪优选品牌
基片尺寸 8英寸及以下
基片加热温度 室温～500℃，控制精度±0.1℃
前驱体输运系统 标准2路前驱体管路，可选配
前驱体管路温度 室温～200℃，控制精度±0.1℃
源瓶加热温度 室温～200℃，控制精度±0.1℃
ALD阀 Swagelok快速高温ALD专用阀
本底真空 ＜5*10-3Torr，进口防腐泵
载气系统 N2或者Ar
处理能力 500片8英寸
生长模式 连续高速沉积模式
控制系统 PLC+触摸屏或者显示器
电源 50-60Hz, 380V/40A交流电源
沉积非均匀性 非均匀性＜±1% 片间非均匀性 <±1.5%
设备尺寸 1400mmx800mmx2000mm
可沉积薄膜种类：AII微量氧分析仪原子层沉积系统进口微量氧分析仪优选品牌
单 质：Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…
氮化物：TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …
氧化物：TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2…
其它化合物：GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…
应用实例：AII微量氧分析仪原子层沉积系统进口微量氧分析仪优选品牌
高K栅氧化层，存储容性电介质，铜互连中高深宽比扩散阻挡层，OLED无针孔钝化层，MEMS的高均匀镀膜，纳米多孔结构镀膜，特种光纤掺杂，太阳能电池，平板显示器，光学薄膜，其它各类特殊结构纳米薄膜
AII微量氧分析仪技术参数：
技术参数
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微量氧分析仪传感器
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电化学氧传感器
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精度
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0~10ppm ±5%FS
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0~100ppm ±3% FS
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0~1000ppm ±2% FS
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重复性
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0~10ppm ±2.5%FS
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0~100ppm ±1.5% FS
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0~1000ppm ±1% FS
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稳定性
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0~10ppm ±2.5%FS/7d
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0~100ppm ±1.5% FS/7d
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0~1000ppm ±1% FS/7d
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灵敏度
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全量程范围内0.5%
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响应时间
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T90＜60S（25℃）
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测量介质
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抗氢型：氮气，氢气，氦气，氩气和碳氢化合物气体；
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抗二氧化碳型：氮气，氢气，氦气，氩气，二氧化碳浓度高于1000ppm的气体和碳氢化合物气体
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报警触点容量
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240VAC，0.2A
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供电电源
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85-264VAC 50/60Hz，功耗小于20VA
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通讯
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RS485/RS232（选配）
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环境温度
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0-45℃
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环境湿度
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＜80%RH
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样气温度
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0-45℃
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测量方式
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气体通入式
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样气压力
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35-210KPa
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样气流量
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1-1.5L/min
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传感器寿命
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正常使用为24 个月(氧浓度低于1000ppm,常压,25℃)
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仪器尺寸
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144(L)×144(W) ×190(D)，mm
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微量氧分析仪应用领域：
空气分离；气体生产制造检测；半导体行业保护气体检测；回流焊/波峰焊中保护气体检测；食品生产过程气体检测；石油化工过程中的气体检测；惰性气体和碳氢化合物气体中的氧浓度检测。
